Radical-Induced Effect on PEALD SiO2 Films by Applying Positive DC Bias

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:ECS journal of solid state science and technology 2022-02, Vol.11 (2)
Hauptverfasser: Park, Suhyeon, Park, Taehun, Choi, Yeongtae, Jung, Chanwon, Kim, Byunguk, Jeon, Hyeongtag
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2162-8769
2162-8777
DOI:10.1149/2162-8777/ac4c9e