Low Hydrogen Silicon Carbon Nitride Cap for High Performance Sub-10 nm Cu-Low k Interconnect

Low Hydrogen Silicon Carbon Nitride Cap for High Performance Sub-10 nm Cu-Low k Interconnect

As integrated circuits for high performance CMOS devices scale down to

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Nguyen, Son van, Shobha, Hosadurga k, Haigh, Thomas J, Yao, Yiping, Tai, Leo, Cohen, Stephan A, Shaw, Thomas M, Hu, Chao-kun, Liniger, Eric, Virwani, Kumar, Kellock, Andrew J, Canaperi, Donald F
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:As integrated circuits for high performance CMOS devices scale down to
ISSN:1938-5862
1938-6737
1938-6737
1938-5862
DOI:10.1149/07705.0111ecst