Self-consistent modeling of microwave activated N2/CH4/H2 (and N2/H2) plasmas relevant to diamond chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2022-03, Vol.31 (3)
Hauptverfasser:	Ashfold, Michael N R, Mankelevich, Yuri A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	chemical vapor deposition diamond methane and hydrogen microwave plasma nitrogen plasma chemistry self-consistent modeling
Online-Zugang:	Volltext
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