Recent advances in the growth of gallium oxide thin films employing various growth techniques—a review

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2021-11, Vol.54 (45), p.453002
Hauptverfasser:	Tak, B R, Kumar, Sudheer, Kapoor, A K, Wang, Danhao, Li, Xiaohang, Sun, Haiding, Singh, R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	ALD gallium oxide MBE mist CVD MOCVD PLD sputtering
Online-Zugang:	Volltext
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