Sputter Deposition of Nanostructured TiO2 Thin Films

A physical vapor deposition (PVD) method using plasma discharge-glancing angle deposition (GLAD), based on a variation of the particle's incidence angle to the substrate, enables the formation of TiO 2 thin films with oriented columnar nanostructure. The incidence angle influences crystalline,...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on plasma science 2014-10, Vol.42 (10), p.2790-2791
Hauptverfasser:	Horáková, Marta, Cerný, Pavel, Kríž, Pavel, Bartoš, Petr, Špatenka, Petr
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Educational institutions Magnetrons plasma applications Scanning electron microscopy Sputtering Substrates Surface morphology Surface treatment
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