Plasma Enhanced Cvd Method For Simultaneous Deposition On Both Sides Of The Substrate And Lts Application To The In-line Multilayer Deposition System

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Kokaku, Y., Inaba, H., Kataoka, H., Abe, K., Sunagawa, M.
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Electric potential Electrodes Magnetic films Optical films Plasma applications Plasma materials processing Plasma measurements Plasma transport processes Substrates Voltage
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