Fabrication of Gated Field Emitter Arrays with Self-Align Lateral Resistors

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Karpov, L.D., Genelev, A.P., Drach, V.A., Zasemkov, V.S.
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cathodes Chromium Etching Fabrication Field emitter arrays Lithography Resistors Resists Silicon carbide Sputtering
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Beschreibung
Zusammenfassung:
DOI:	10.1109/IVMC.1997.627661