Buried Ceramic Layer Formation In Glass And Silicon Using Plasma Source Ion Implantation

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Booske, J.H., Zhan, L., Cooper, R.F., Shohet, J.L., Shenai, K., Dallman, D., Goeckner, M.J., Breun, R., Hitchon, W.N.G., Wickesberg, E., Speth, R., Jacobs, J.R., Was, G.
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Ceramics CMOS technology DNA Electron beams Flue gases Glass Ion implantation Plasma sources Silicon Surface treatment
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