High performance 110 nm InGaAs/InP DHBTs in dry-etched in-situ refractory emitter contact technology

We report a 110 nm InP/In 0.53 Ga o.47 As/InP double heterojunction bipolar transistor (DHBT) demonstrating a simultaneous f t /f max 465/660 GHz and operating at power densities in excess of 50 mW/μm 2 . To our knowledge this is the smallest junction width reported for a III-V DHBT. The narrow 110...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Jain, Vibhor, Lobisser, Evan, Baraskar, Ashish, Thibeault, Brian J, Rodwell, Mark, Griffith, Z, Urteaga, M, Bartsch, S T, Loubychev, D, Snyder, A, Wu, Y, Fastenau, J M, Liu, W K
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!