Carbon Implanted Halo for Super Halo Characteristic NFETs in Bulk and SOI

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Ellis-Monaghan, J., Kam-Leung Lee, Meikei Ieong, Yang, I.
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Annealing Boron Implants Subthreshold current Temperature Threshold voltage
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Beschreibung
Zusammenfassung:
DOI:	10.1109/ESSDERC.2001.195224