VB-6 a laser-induced ohmic link for wafer-scale integration in standard CMOS processing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on electron devices 1986-11, Vol.33 (11), p.1861-1861
Hauptverfasser: Canter, J.M., Chapman, G.H., Mathur, B., Naiman, M.L., Raffel, J.I.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0018-9383
1557-9646
DOI:10.1109/T-ED.1986.22818