Impurity atom diffusion into finite slices of semiconductor material

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Proceedings of the IEEE 1963-01, Vol.51 (2), p.372-373
Hauptverfasser:	Kennedy, D.P., Murley, P.C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Bismuth Cyclotrons Diffusion processes Frequency Plasma materials processing Plasma temperature Plasma waves Semiconductor impurities Semiconductor materials Solid state circuits
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!