Application des métasurfaces aux antennes à faible épaisseur

In recent years, metasurfaces have become a rapidly growing domain of research in several fields of engineering and applied physics due to their ability to manipulate both phase and amplitude of electromagnetic fields. These artificial 2D-materials, usually composed of metallic elements printed on d...

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Veröffentlicht in:Comptes rendus. Physique 2021-01, Vol.21 (7-8), p.659-676
Hauptverfasser: Casaletti, Massimiliano, Valerio, Guido, Quevedo-Teruel, Oscar, Burghignoli, Paolo
Format: Artikel
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:In recent years, metasurfaces have become a rapidly growing domain of research in several fields of engineering and applied physics due to their ability to manipulate both phase and amplitude of electromagnetic fields. These artificial 2D-materials, usually composed of metallic elements printed on dielectric substrates, have the advantages of being low profile, lightweight as well as easy to fabricate and integrate with standard circuit technologies. In this context, this paper reviews the latest progress in metasurface antenna design, where metasurfaces are used to miniaturize the profile, increase the bandwidth, and control the radiation pattern in the near- and far-field regions. Ces dernières années, la thématique des métasurfaces est devenue un sujet de recherche en pleine expansion dans plusieurs domaines de l’ingénierie et de la physique appliquée, en raison de leur capacité à manipuler à la fois la phase et l’amplitude des champs électromagnétiques. Ces matériaux artificiels bi-dimensionnels, généralement composés d’éléments métalliques imprimés sur des substrats diélectriques, ont l’avantage d’être de très faible épaisseur, légers et faciles à fabriquer et à intégrer avec les circuits imprimés. Cet article passe en revue les dernières avancées dans la conception d’antennes à métasurface, où les métasurfaces sont utilisées pour minimiser l’épaisseur, augmenter la bande passante et contrôler le diagramme de rayonnement en champ proche et en champ lointain.
ISSN:1631-0705
1878-1535
DOI:10.5802/crphys.20