Excitation of Ar, O 2 , and SF 6 /O 2 plasma discharges using tailored voltage waveforms: control of surface ion bombardment energy and determination of the dominant electron excitation mode

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2018-07, Vol.27 (7), p.74003
Hauptverfasser:	Fischer, G, Ouaras, K, Drahi, E, Bruneau, B, Johnson, E V
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical and Process Engineering Electronics Engineering Sciences Micro and nanotechnologies Microelectronics Physics Plasma Physics Plasmas
Online-Zugang:	Volltext
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