New CH 4 -N 2 dry etch chemistry for poly(methyl methacrylate) removal without consuming polystyrene for lamellar copolymers application

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics Nanotechnology & microelectronics, 2019-05, Vol.37 (3)
Hauptverfasser:	Sarrazin, Aurélien, Posseme, Nicolas, Pimenta-Barros, Patricia, Barnola, Sebastien, Tiron, Raluca, Cardinaud, Christophe
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed Matter Materials Science Physics
Online-Zugang:	Volltext
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