Influence of film thickness and Ar N2 plasma gas on the structure and performance of sputtered vanadium nitride coatings

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Surface & coatings technology 2019-11, Vol.378, p.124948, Article 124948
Hauptverfasser: Aissani, Linda, Alhussein, Akram, Nouveau, Corinne, Ghelani, Laala, Zaabat, Mourad
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0257-8972
1879-3347
DOI:10.1016/j.surfcoat.2019.124948