Temperature effect on an N-channel commercial VDMOSFET transistor

High temperature effect on MOSFET devices was evaluated by exposing the silicon devices to a temperature value above the normal operating range in order to study the device behavior under extreme conditions. Measurements show an increasing in the saturation drain‐source current and the reverse drain...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physica status solidi. C 2011-03, Vol.8 (3), p.875-878
Hauptverfasser: Abboud, Nadine, Salame, Chafic, Cuminal, Yvan, Foucaran, Alain, Hoffmann, Alain
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!