Temperature effect on an N-channel commercial VDMOSFET transistor
High temperature effect on MOSFET devices was evaluated by exposing the silicon devices to a temperature value above the normal operating range in order to study the device behavior under extreme conditions. Measurements show an increasing in the saturation drain‐source current and the reverse drain...
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Veröffentlicht in: | Physica status solidi. C 2011-03, Vol.8 (3), p.875-878 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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