Monte Carlo simulation of charge exchange processes in the scattering of 4 keV He+ ions by an amorphous silicon surface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms Beam interactions with materials and atoms, 2007-05, Vol.258 (1), p.40-43
Hauptverfasser: Khalal-Kouache, K., Chami, A.C., Boudjema, M., Bénazeth, Claude
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1872-9584
0168-583X
DOI:10.1016/j.nimb.2006.12.085