Some investigations on the anisotropy of the chemical etching of (hk0) and (hhl) silicon plates in a NaOH 35% solution. Part II : 3D etching shapes, analysis and comparison with KOH 56

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Active and passive electronic components 2002, Vol.24, p.243-264
Hauptverfasser:	Tellier, Colette R., Hodebourg, C., Durand, S.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Engineering Sciences Micro and nanotechnologies Microelectronics
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!