Some investigations on the anisotropy of the chemical etching of (hk0) and (hhl) silicon plates in a NaOH 35% solution. Part I : 2D etching shapes

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Active and passive electronic components 2001, Vol.34, p.31-56
Hauptverfasser:	Hodebourg, C., Tellier, Colette R.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Engineering Sciences Micro and nanotechnologies Microelectronics
Online-Zugang:	Volltext
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