Determination of the electrical properties of 2.5nm thick silicon-based dielectric films : thermally grown SiOx

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of non-crystalline solids 2001, Vol.280, p.69-77
Hauptverfasser:	Pic, N., Glachant, A., Nitsche, S., Hoarau, J.Y., Goguenheim, D., Vuillaume, D., Sibai, A., Autran, Jean-Luc
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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