On the growth kinetics of Ni(Pt) silicide thin films

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Demeulemeester, J, Smeets, D, Comrie, CM, Barradas, NP, Vieira, A, Van Bockstael, Charlotte, Detavernier, Christophe, Temst, K, Vantomme, A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry DIFFUSION MECHANISMS ELEMENTS MARKER NI2SI NISI FILMS PHASE-FORMATION RESISTANCE MEASUREMENTS RUTHERFORD BACKSCATTERING DATA THERMAL-STABILITY
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0021-8979