Empirical-based modeling for control of CMP removal uniformity

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Solid state technology 2001-06, Vol.44 (6), p.101
Hauptverfasser:	Jensen, Alan, Renteln, Peter, Jew, Stephen, Raeder, Chris, Cheung, Patrick
Format:	Magazinearticle
Sprache:	eng
Schlagworte:	Analysis Manufacturing processes Production management Semiconductor industry
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0038-111X