Silicon-rich-methacrylate bilayer resist for 193-nm lithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Solid state technology 1998-06, Vol.41 (6), p.69-79
Hauptverfasser:	BLAKENEY, A, GABOR, A, WHITE, D, STEINHÄUSLER, T, DEADY, W, JARMALOWICZ, J, KUNZ, R, DEAN, K, RICH, G, STARK, D
Format:	Magazinearticle
Sprache:	eng
Schlagworte:	Analysis Electronics industry Equipment and supplies Exact sciences and technology Photolithography Photoresists Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!