High-resolution profilometry for CMP process control

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Solid state technology 1997-06, Vol.40 (6), p.203-210
Hauptverfasser:	SCHNEIR, J, JOBE, R, TSAI, V. W
Format:	Magazinearticle
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology High resolution spectroscopy Innovations Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Process control Production management Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices Semiconductor wafers
Online-Zugang:	Volltext
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