Nano patterning at Fraunhofer IPMS-CNT: Fabrication of silicon master for NIL via e-beam direct write: Poster presented at Workshop on µ-contact-printing and nanoimprint technology 2015; Dresden, Germany, 9th March 2015

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Thrun, Xaver, Choi, Kang-Hoon, Gutsch, Manuela, Hohle, Christoph, Rudolph, Matthias, Seidel, Konrad
Format:	Bild
Sprache:	eng
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