Investigations into the photodegradation of wood using microtensile testing. Pt.3: The influence of temperature on photodegradation rates

Diese Arbeit beschreibt den Einfluss der Temperatur auf den Photoabbau von Holz. Zehn Nadelholzarten wurden bis zu 400 Stunden lang kuenstlich bewittert mit dem Xenotest bei 25, 35, 45 und 55 Grad C. Die Abbauraten bei verschiedenenTemperaturen wurden anhand des Festigkeitsverlustes mit Hilfe einer...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	European journal of wood and wood products 1997, Vol.55 (5)
Hauptverfasser:	Derbyshire, H, Miller, E.R, Turkulin, H
Format:	Artikel
Sprache:	ger
Schlagworte:	ALBURA ARAUCARIA ANGUSTIFOLIA AUBIER BOIS DE RESINEUX ENSAYO FOTOLISIS LARIX DECIDUA MADERA DE CONIFERAS MECHANICAL PROPERTIES PHOTOLYSE PHOTOLYSIS PICEA ABIES PICEA GLAUCA PICEA SITCHENSIS PINUS MONTICOLA PINUS PALUSTRIS PINUS SYLVESTRIS PROPIEDADES MECANICAS PROPRIETE MECANIQUE PSEUDOTSUGA MENZIESII SAPWOOD SOFTWOOD TEMPERATURA TEMPERATURE TESTAGE TESTING TSUGA HETEROPHYLLA
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Diese Arbeit beschreibt den Einfluss der Temperatur auf den Photoabbau von Holz. Zehn Nadelholzarten wurden bis zu 400 Stunden lang kuenstlich bewittert mit dem Xenotest bei 25, 35, 45 und 55 Grad C. Die Abbauraten bei verschiedenenTemperaturen wurden anhand des Festigkeitsverlustes mit Hilfe einer Mikro-Zugpruefung bestimmt. Die Abbauraten erwiesen sich als temperaturabhaengig und stiegen mit der Temperatur an. Die Pruefmethode erlaubt eine Differenzierung des Photowiderstandes der verschiedenen Species. Die Arrhenius-Graphen waren linear und lieferten Aktivierungsenergien zwischen 5,9 und 24,8 kJ/mol.
ISSN:	0018-3768 1436-736X