Temperaturstabile Dünnfilmwiderstände aus Ti/TiN und Ti/NiCr mit niedrigem Temperaturkoeffizienten und ihre Integration in einen Standard-CMOS-Prozess

Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008 Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008 Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008

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Format:	Web Resource
Sprache:	ger
Schlagworte:	Engineering and mechanical engineering Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008 Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008 Duisburg, Essen, Univ., Diss., 2008