Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung

Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011

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1. Verfasser:	Austgen, Michael
Format:	Web Resource
Sprache:	ger
Schlagworte:	Physik Reactive sputtering Reaktives Sputtern
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container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator	Austgen, Michael
description	Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011
format	Web Resource
fullrecord	<record><control><sourceid>europeana_1GC</sourceid><recordid>TN_cdi_europeana_collections_2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-europeana_collections_2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqtz1FOwzAMBuC-8ICAO-QCkwarBuKNdqMtMLF1CMZTlaXeYi1zqsSBnWkH4AJcjFRwBJ784N-f7dPkuASHYAx4kdvBsgvM4EjcTok_Ue1MoK0AJHBiY-CAawMkMvBKo9Icm55BabLGbhFEoFa04GIk19LJXaTQI7gekfs4h76Ly_qMqCVDZPX3l-7bH5bEDFgaYw_YRqENTun-ponlX-I8OdlI4-Hir54lD_fTl7wcQHC2A0myUTZ-ohgt-eZqmN6k6WWDDPvmsRhdL1aLu9fJfJzV1dN7Ub5VRfVcj-dZOSuq0b9iP2Yjdno</addsrcrecordid><sourcetype>Aggregation Database</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>web_resource</recordtype></control><display><type>web_resource</type><title>Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung</title><source>Europeana Collections</source><creator>Austgen, Michael</creator><creatorcontrib>Austgen, Michael</creatorcontrib><description>Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011</description><language>ger</language><publisher>Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen</publisher><subject>Physik ; Reactive sputtering ; Reaktives Sputtern</subject><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://data.europeana.eu/item/2048441/item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI$$EHTML$$P50$$Geuropeana$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>780,38516,76047</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://data.europeana.eu/item/2048441/item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI$$EView_record_in_Europeana$$FView_record_in_$$GEuropeana$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Austgen, Michael</creatorcontrib><title>Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung</title><description>Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011</description><subject>Physik</subject><subject>Reactive sputtering</subject><subject>Reaktives Sputtern</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>web_resource</rsrctype><recordtype>web_resource</recordtype><sourceid>1GC</sourceid><recordid>eNqtz1FOwzAMBuC-8ICAO-QCkwarBuKNdqMtMLF1CMZTlaXeYi1zqsSBnWkH4AJcjFRwBJ784N-f7dPkuASHYAx4kdvBsgvM4EjcTok_Ue1MoK0AJHBiY-CAawMkMvBKo9Icm55BabLGbhFEoFa04GIk19LJXaTQI7gekfs4h76Ly_qMqCVDZPX3l-7bH5bEDFgaYw_YRqENTun-ponlX-I8OdlI4-Hir54lD_fTl7wcQHC2A0myUTZ-ohgt-eZqmN6k6WWDDPvmsRhdL1aLu9fJfJzV1dN7Ub5VRfVcj-dZOSuq0b9iP2Yjdno</recordid><creator>Austgen, Michael</creator><general>Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen</general><scope>1GC</scope></search><sort><title>Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung</title><author>Austgen, Michael</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-europeana_collections_2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI3</frbrgroupid><rsrctype>web_resources</rsrctype><prefilter>web_resources</prefilter><language>ger</language><topic>Physik</topic><topic>Reactive sputtering</topic><topic>Reaktives Sputtern</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Austgen, Michael</creatorcontrib><collection>Europeana Collections</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Austgen, Michael</au><format>book</format><genre>unknown</genre><ristype>GEN</ristype><btitle>Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung</btitle><abstract>Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011</abstract><pub>Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen</pub><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext	fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language	ger
recordid	cdi_europeana_collections_2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI
source	Europeana Collections
subjects	Physik Reactive sputtering Reaktives Sputtern
title	Serielles Co-Sputtern :Entwicklung einer flexiblen Beschichtungstechnologie und deren Charakterisierung am Beispiel der Ratenerhöhung von Metalloxiden durch Co-Dotierung
url	https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-08T22%3A05%3A01IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-europeana_1GC&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:book&rft.genre=unknown&rft.btitle=Serielles%20Co-Sputtern%20:Entwicklung%20einer%20flexiblen%20Beschichtungstechnologie%20und%20deren%20Charakterisierung%20am%20Beispiel%20der%20Ratenerh%C3%B6hung%20von%20Metalloxiden%20durch%20Co-Dotierung&rft.au=Austgen,%20Michael&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Ceuropeana_1GC%3E2048441_item_KG37QXQAVDP6BRILYGHWIGIOR6PBHMGI%3C/europeana_1GC%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true