BLOCK RESISTANT FILM

A block-resistant film is described which comprises a core layer of a thermoplastic polymer having a first side and a second side; a functional layer which is printable or sealable or treatable for printing or sealing is on the first side of the core layer, and a block-resistant layer is on the seco...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: CRETEKOS, GEORGE, FORMAN, DANG, LUCY, WAGNER, JOHN, RALPH, JR
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A block-resistant film is described which comprises a core layer of a thermoplastic polymer having a first side and a second side; a functional layer which is printable or sealable or treatable for printing or sealing is on the first side of the core layer, and a block-resistant layer is on the second side of the core layer. The block-resistant layer comprises a thermoplastic polymer and an amount of a polydialkylsiloxane, based upon the entire weight of the block-resistant layer, sufficient to inhibit blocking of the block-resistant layer to the functional layer when they are in contact and which polydialkylsiloxane deposits silicon onto the functional layer but the amount of silicon deposited is not substantially detrimental to the printing function or the sealing function. L'invention concerne un film résistant aux adhérences accidentelles et comprenant une couche centrale en polymère thermoplastique présentant un premier et un second côté, une couche fonctionnelle que l'on peut imprimer, sceller ou traiter aux fins d'impression ou de scellement, située sur le premier côté de la couche centrale, ainsi qu'une couche résistant aux adhérences accidentelles et située sur le second côté de la couche centrale. La couche résistant aux adhérences accidentelles comprend un polymère thermoplastique ainsi qu'une certaine quantité d'un polydialkylsiloxane, calculée sur le poids total de la couche résistant aux adhérences accidentelles, et suffisante pour inhiber l'adhérence de cette couche à la couche fonctionnelle, lorsque celles-ci entrent en contact; l'invention est caractérisée en ce que le polydialkylsiloxane dépose de la silicone sur la couche fonctionnelle, mais que la quantité déposée ne nuit sensiblement pas aux fonctions d'impression ou de scellement.