LARGE AREA SILENT DISCHARGE EXCITATION RADIATOR

Ultraviolet and vacuum ultraviolet radiators (100) for use in the manufacture of semiconductors are provided which have improved lifetimes, improved distribution of radiation generation, improved distribution of emitted radiation, increased efficiency of radiation emission, and improved means for cooling. The radiators (100) have novel electrodes (106), novel electrode configurations, novel means for distributing plasmas between electrodes, and have novel cooling means. These features enable the miniaturization of the radiators permitting high intensity and uniform radiation exposure of planar surfaces. The radiators are used in the pre-treatment of semiconductor surfaces, the deposition of semiconductor thin films, and the post-deposition processing of semiconductor thin films. On décrit des éléments rayonnants ultraviolets et ultraviolets extrêmes (100), qui s'utilisent dans la fabrication de semi-conducteurs et ont une durée de vie améliorée, une distribution améliorée de l'émission de rayonnement, une distribution améliorée du rayonnement émis, une efficacité accrue de l'émission de rayonnement, et un moyen amélioré de refroidissement. Les éléments rayonnants (100) comprennent de nouvelles électrodes (106), de nouvelles configurations d'électrodes, un nouveau moyen de répartition du plasma entre les électrodes et un nouveau moyen de refroidissement. Ces caractéristiques autorisent une miniaturisation des éléments rayonnants permettant d'obtenir une exposition uniforme et à haute intensité des surfaces planaires aux rayonnements. Ces éléments rayonnants s'utilisent pour le prétraitement de surfaces de semi-conducteurs, le dépôt de semi-conducteurs à couches minces, et le traitement après dépôt de semi-conducteurs à couches minces.