VOLTAGE CONTROLLED RESISTANCE MODULATION FOR SINGLE EVENT UPSET IMMUNITY

An SRAM cell includes six transistors and two variable resistors. A first pair of transistors form a first inverter, while a second pair of transistors form a second inverter. The remaining two transistors are pass transistors. The inverters are cross-coupled, through the variable resistors, to form a flip flop circuit which stores binary logic states. The variable resistors are formed by doping a portion of a polysilicon layer. Above the doped polysilicon resistor is a thin oxide layer. Disposed above the oxide layer is a thin layer of aluminum or polysilicon, which is connected by metallization. When a positive voltage is applied to the metallization, electrons accumulate in the doped polysilicon resistor, thereby lowering the resistance value of the polysilicon region. This voltage is applied to the interconnect during a write-in cycle, when it is desired to write data to the SRAM cell. The lowered resistance value of the polysilicon resistor allows for relatively fast write-in times for the SRAM cell. At all other times, no voltage is applied to the interconnect. As such, the resistance value of the doped resistor polysilicon region remains at a relatively high value, thereby providing for a high RC time delay and increased immunity to soft errors or single event upsets which may be caused by ionizing radiation. L'invention concerne une cellule mémoire SRAM comprenant six transistors et deux résistances variables. Une première paire de transistors forme un premier inverseur, et une seconde paire de transistors forme un second inverseur. Les deux transistors restants sont des transistors de chute. Les inverseurs sont interconnectés, via les résistances variables, de manière à constituer un basculeur qui enregistre les états logiques binaires. Les résistances variables sont obtenues par dopage d'une partie de couche de silicium polycristallin. Une fine couche d'oxyde se trouve au-dessus de la résistance au silicium polycristallin dopé. Au-dessus de la couche d'oxyde se trouve une fine couche d'aluminium ou de silicium polycristallin, reliée par métallisation. L'application d'une tension positive à la métallisation fait que les électrons s'accumulent dans la résistance au silicium polycristallin dopé, ce qui abaisse la résistance de la zone au silicium polycristallin. Ladite tension est appliquée à l'interconnexion pendant un cycle d'écriture, quand l'écriture de données dans la cellule mémoire SRAM est requise. La baisse de résistance considérée permet d