ELECTROSTATIC CHUCK CAPABLE OF RAPIDLY DECHUCKING A SUBSTRATE

An electrostatic chuck (20) for holding a substrate (12) comprises a dielectric (70) having a receiving surface (75) for receiving the substrate thereon. The dielectric (70) comprises a charging electrode (80) for generating electrostatic charge for electrostatically holding the substrate (12) to th...

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Hauptverfasser: KUMAR, ANANDA, H, SHAMOUILIAN, SHAMOUIL
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:An electrostatic chuck (20) for holding a substrate (12) comprises a dielectric (70) having a receiving surface (75) for receiving the substrate thereon. The dielectric (70) comprises a charging electrode (80) for generating electrostatic charge for electrostatically holding the substrate (12) to the receiving surface (75), and a discharge electrode (85) electrically isolated from the charging electrode for removing electrostatic charge accumulated in the chuck (20). L'invention concerne un mandrin électrostatique (20) permettant de maintenir un substrat (12), comprenant un diélectrique (70) pourvu d'une surface de réception (75) destinée à recevoir ledit substrat. Le diélectrique (70) comprend une électrode de charge (80) permettant de produire une charge électrostatique destinée à maintenir le substrat, de manière électrostatique, sur la surface de réception (75). Le diélectrique comprend également une électrode de décharge (85) électriquement isolée de l'électrode de charge de façon à éliminer la charge électrostatique accumulée dans le mandrin (20).