SEGMENTED POLISHING PAD

A segmented polishing pad for use in the chemical-mechanical polishing of workpieces is presented which preferably comprises a plurality of pie-shaped segments (159). The plurality of individual pie-shaped segments (158) may also have channels (164) located between them. The segmented polishing pad (156) provides for easier storage, application, removal, and disposal of the polishing pad. The channels (164) located between the individual segments (158) may also improve the planarity of the workpieces being polished by improving the distribution of slurry used in the chemical-mechanical polishing process. L'invention concerne un tampon à polir constitué de secteurs qui convient pour le polissage chimico-mécanique de pièces triangulaires (159). Ce tampon en secteurs est de préférence constitué par une pluralité de secteurs (158) pouvant être séparés par des gorges (164). Il offre l'avantage de pouvoir être stocké, appliqué, déposé et mis (156) au rebut plus facilement. Par ailleurs, La présence de gorges (164) entre les secteurs individuels (158) peut procurer une amélioration de la planéité des pièces à usiner grâce à une meilleure répartition de la pâte fluide utilisée pour le polissage chimico-mécanique.