COMBINED CMP AND WAFER CLEANING APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS

An integral machine for polishing, cleaning, rinsing and drying workpieces such as semiconductor wafers. A load/unload station has a plurality of platforms for receiving cassettes of wafers to be processed. A dry end-effector of a robot retrieves wafers from the cassettes and transfers them to an in...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MACERNIE, JON, R, HAMER, ARTHUR, CALDERON, FERNANDO, JORDAN, TOBY, HOWARD, CRAIG, M, ALLEN, ROBERT, F, GONZALES-MARTIN, JOSE, R, CUNNANE, JEFF, THORNTON, WILLIAM, KARLSRUD, CHRIS, GOPALAN, PERIYA
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:An integral machine for polishing, cleaning, rinsing and drying workpieces such as semiconductor wafers. A load/unload station has a plurality of platforms for receiving cassettes of wafers to be processed. A dry end-effector of a robot retrieves wafers from the cassettes and transfers them to an index table. A transfer apparatus having wafer carrier elements picks up wafers from the index table, moves the wafers to a polishing table for polishing, and returns the wafers to the index table for further processing. A flipper moves the polished wafers to a cleaning station. The cleaning station includes scrub stations, a rinsing station and a spin dryer station, and a connective system of water tracks. A wet end-effector of the robot transfers rinsed wafers to the spin dryer station. The dry end-effector of the robot moves dried wafers from the spin dryer station back to the cassette of origination. L'invention concerne une machine intégrée pour le polissage, le rinçage, le nettoyage et le séchage de pièces comme les plaquettes en semiconducteur. Une station de chargement/déchargement comporte une pluralité de plates-formes permettant de recevoir les cassettes de plaquettes à traiter. Un organe de préhension de plaquettes sèches récupère les plaquettes depuis les cassettes et les transfère à une table d'indexation. Un appareil de transfert doté d'éléments porte-plaquette saisit les plaquettes sur ladite table, les déplace jusqu'à une table de polissage aux fins de polissage, et les ramène à cette table pour la suite du traitement. Un déclencheur transfère les plaquettes polies à une station de nettoyage, qui comprend des postes de décrassage, un poste de rinçage et un poste à essoreuse centrifuge, ainsi qu'un système relié de pistes d'eau. Un organe de préhension de plaquettes mouillées prévu sur le robot transfère les plaquettes rincées au poste à essoreuse centrifuge. L'organe de préhension de plaquettes séches également prévu sur le robot ramène les plaquettes sèches depuis le poste à essoreuse centrifuge vers la cassette d'origine.