METHOD OF POST-ETCHING A MECHANICALLY TREATED SUBSTRATE

Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in, for example, a glass duct plate of a plasma-addressed liquid crystal display, in which first a mechanical treatment is performed (for example, by means of powder blasting) and then a wet-chemical etching treatment is performed to render...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BUSIO, JOHANNES, MARIA, MARCUS, IN'T VELD, FREDERIK, HENDRIK, LARSEN, POUL, KJERPY, SPIERINGS, GIJSBERTUS, ADRIANUS, CORNELUS, MARIA, POSTMA, LAMBERTUS, VAN DER PUTTEN, JAN, BAPTIST, PETRUS, HENRIKUS
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in, for example, a glass duct plate of a plasma-addressed liquid crystal display, in which first a mechanical treatment is performed (for example, by means of powder blasting) and then a wet-chemical etching treatment is performed to render the walls of the ducts microscopically less rough so that the optical disturbance is reduced and the glass becomes clearer again. La présente invention concerne un procédé permettant de réaliser un motif fait d'ouvertures et/ou de cavités, notamment dans la plaque à conduits en verre d'un écran à cristaux liquides à adressage plasma. Ce procédé consiste à réaliser un premier traitement mécanique (par exemple un sablage par particules pulvérulentes) puis un traitement par gravure chimique en milieu humide permettant de rendre les parois des conduits microscopiquement moins rugueuses de façon à réduire les perturbations optiques et à obtenir un verre encore plus transparent.