PROCESS AND DEVICE FOR APPLYING A PHOTORESIST LACQUER ON UNEVEN BASE BODY SURFACES

Bei einer Vorrichtung zum Auftragen von Fotoresistlack auf nicht ebene Oberflächen eines beliebig geformten Grundkörpers, insbesondere Rotationskörpers, sind eine Aufnahmeeinrichtung (14) für den Grundkörper (40), eine relativ dazu bewegbare Zuführungseinrichtung (20) für den Fotoresistlack (50) und...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DAAUD, SIMONE, BOETTCHER, REINULF, LUETHJE, HOLGER
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY NOZZLES ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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