SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH PRISMATIC CHANNEL AREA

Die Erfindung betrifft ein Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Bauelementes in Planartechnologie bestehend aus einem Substrat (1), insbesondere einem Silizium-Substrat, und darauf ausgebildeten zueinander beabstandeten isolierten Anschlussbereichen (A), zwischen denen isoli...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ROSKOS, HARTMUT, GONDERMANN, JOERG, KURZ, HEINRICH, ROEWER, THOMAS, SPANGENBERG, BERND
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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