SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH PRISMATIC CHANNEL AREA
Die Erfindung betrifft ein Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Bauelementes in Planartechnologie bestehend aus einem Substrat (1), insbesondere einem Silizium-Substrat, und darauf ausgebildeten zueinander beabstandeten isolierten Anschlussbereichen (A), zwischen denen isoli...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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