A METHOD OF ACCURATE COMPOSITIONAL ANALYSIS OF DIELECTRIC FILMS ON SEMICONDUCTORS

A method of accurately determining the composition of a dielectric film in a semiconductor device by performing a compositional analysis on a film only portion of the semiconductor device. Procédé permettant d'analyser avec précision la composition de la couche diélectrique d'un dispositif...

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Hauptverfasser: ALVIS, ROGER, L, ROMERO, JEREMIAS, D, FATEMI, HOMI
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of accurately determining the composition of a dielectric film in a semiconductor device by performing a compositional analysis on a film only portion of the semiconductor device. Procédé permettant d'analyser avec précision la composition de la couche diélectrique d'un dispositif semi-conducteur en analysant la composition d'une partie couche uniquement du dispositif.