FACILITY FOR TREATING FLAT ARTICLES WITH A PLASMA STREAM
The invention can be used in the plasma treatment of flat articles such as plates used in electrical engineering and electronics. The invention in essence is a facility for treating flat articles with a plasma stream, comprising a drive fitted in a closed chamber (1) and used for rotating a holder (...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; rus |
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Zusammenfassung: | The invention can be used in the plasma treatment of flat articles such as plates used in electrical engineering and electronics. The invention in essence is a facility for treating flat articles with a plasma stream, comprising a drive fitted in a closed chamber (1) and used for rotating a holder (11), a plasma generator (7), centring units (12), and storage units (13). The plate (30) to be treated is taken from the storage unit (13) and mounted in the centring element (12), whence the holder (11) picks up the plate and, rotating with the plate about its own axis, passes it over the plasma generator (7) which effects the treatment. The cycle can be repeated as often as required.
Cette invention a trait à des opérations de traitement plasmique d'articles plats, par exemple, de plaques dans les domaines de l'électrotechnique et de l'électronique. Cette invention concerne essentiellement une installation destinée au traitement par flux plasmique de plaques, laquelle comprend un dispositif de rotation d'un support (11), un générateur (7) de plasma, des dispositifs de centrage (12) et des unités de stockage (13), ces éléments étant disposés dans une chambre close (1). La plaque devant être traitée (30) est retirée de l'unité de stockage (13), puis placée sur le dispositif de centrage (12). La plaque est ensuite saisie par le support (11) qui, en tournant avec elle autour de son axe, passera au dessus du générateur (7) de plasma, lequel traitera ladite plaque. Ce cycle peut se répéter un nombre de fois prédéterminé. |
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