FABRICATION AND USE OF A SUB-MICRON DIMENSIONAL STANDARD

A sub-micron dimensional standard is embodied in a grating of equal-sized lines and spaces formed in an electron-sensitive material by means of E-beam lithography. Several gratings are generated in the material at different respective doses of electrons. For each dose, a plurality of gratings are formed with different respective energy deposition contour at the interface of a line and a space. At one dose the energy deposition contour will be the same for all of the different gradient values. The grating formed with this dose is chosen as the one having a part which forms the standard. The width of a line, as well as the width of a space, in the selected grating is known in absolute terms to the same degree of accuracy as the grating's period. With such an artifact, the systematic error inherent to a measurement system can be determined. Once this error is known, it can be employed as a compensating factor to correct measurements made via the system. Un étalon dimensionnel sous-micronique est réalisé dans une grille constituée de lignes et d'espaces de dimensions égales, conçus dans une matière sensible aux électrons, par électrolithographie. L'utilisation de doses d'électrons différentes permet de créer plusieurs grilles dans la matière. Chaque dose permet de former une pluralité de grilles grâce à des contours d'apport d'énergie de différente valeur à l'interface d'une ligne et d'un espace. Pour une dose, le contour d'apport d'énergie sera identique pour toutes les différentes valeurs de gradient. La grille formée avec cette dose est choisie pour être celle qui constituera une partie de l'étalon. La largeur d'une ligne ainsi que la largeur d'un espace dans la grille sélectionnée est connue en termes absolus par rapport au même degré de précision que la période de grille. C'est grâce à cet artifice qu'il est possible de déterminer l'erreur systématique inhérente à un système de mesure. Lorsque cette erreur est connue, elle peut servir de facteur de compensation pour corriger des mesures obtenues par ce système.