A SILICON CAPACITIVE PRESSURE SENSOR HAVING A GLASS DIELECTRIC DEPOSITED USING ION MILLING

A silicon capacitive pressure sensor is disclosed having a silicon diaphragm (104) and a silicon substrate (108) arranged in parallel and separated by a glass dielectric spacer (112). The glass is deposited onto a surface of the substrate using an ion milling machine. The sensor further includes a transition piece (116) attached to a second layer of glass insulator (120) disposed between the silicon diaphragm and the transition piece. The transition piece has a throughbore (24) formed therein for applying a fluid to a surface of the silicon diaphragm, the fluid having a pressure desired to be measured by the sensor. The glass disposed between the diaphragm and the transition piece is deposited onto the transition piece using the ion milling process. L'invention concerne un capteur de pression capacitif au silicium présentant un diaphragme (104) et un substrat (108) au silicium disposés en parallèle et séparé par un diélectrique (112) en verre. Le verre est déposé sur une surface du substrat au moyen d'une machine d'usinage ionique. Le capteur comporte également une pièce de transition (116) fixée à la deuxième couche d'isolation (120) en verre placée entre le diaphragme au silicium et ladite pièce de transition. Un orifice traversant (24) est prévu dans cette pièce de transition de manière à permettre l'application d'un fluide sur une surface du diaphragme au silicium, ledit fluide étant sous une pression destinée à être mesurée par le capteur. Le verre placé entre le diaphragme et la pièce de transition est déposé sur la pièce de transition par un procédé d'usinage ionique.