PROCESS FOR ELECTRON BEAM VAPOUR DEPOSITION WITH A MULTI-COMPONENT DEPOSITION MATERIAL

Die bekannten Verfahren zum Bedampfen durch Beaufschlagen des Verdampfungsmaterials, welches aus mehreren Komponenten (Legierungen, Mischungen, Verbindungen) besteht, gewährleisten keine hohe Schichtqualität. Die Schichten sind schwer mit konstanter Zusammensetzung und Dicke definiert aufzudampfen. Erfindungsgemäss wird in-situ die vom Verdampfungsmaterial am Auftreffort des Elektronenstrahls emittierte Röntgenstrahlung gemessen. Das gewonnene Signal wird als Führungsgrösse zur Regelung der Parameter des Verdampfungsprozesses und damit zur Regelung der Beschichtungsrate und der stofflichen Zusammensetzung der aufgebrachten Schicht verwendet. Das Verfahren findet zur Erzeugung korrosionsfester, hochtemperaturfester, verschleissarmer oder optischer Schichten, z.B. auf Bandstahl oder Kunststoffolien, Anwendung. The prior art processes for vapour deposition by applying the deposition material consisting of several components (alloys, mixtures, compounds) do not ensure good coating quality. The coatings are difficult to deposit with a constant composition and thickness. According to the invention, the X-radiation emitted by the deposition material at the point of impingement of the electron beam is measured in situ. The signal obtained is used as a guide to control the deposition process parameters and hence to regulate the rate of coating and the composition of the coating applied. The process is applicable to the production of corrosion-proof, high temperature-resistant, low-wear or optical coatings, e.g. on steel strip or plastic films. Les procédés de dépôt en phase vapeur de type connu, par application d'un matériau de pulvérisation composé de plusieurs constituants (alliages, mélanges, composés) ne permettent pas d'obtenir des résultats satisfaisants de qualité des couches. Il est très difficile d'obtenir des couches de composition et d'épaisseur constantes. Selon l'invention, le rayonnement X qu'émet le matériau de dépôt au point de rencontre avec le faisceau d'électrons est mesuré in situ. Le signal qui en résulte fait office de grandeur de référence pour réguler la vitesse d'application et la composition de la couche. Le procédé s'utilise dans la production de couches anticorrosion, de couches à haute résistance thermique, de couches anti-usure ou de couches optiques, par ex. sur des feuillards ou sur des films plastiques.