A NEGATIVE ION BEAM INJECTION APPARATUS
A negative ion source (10) is constructed to produce H ions without using Cesium. A high percentage of secondary electrons (23) that typically accompany the extracted H are trapped and eliminated from the beam by permanent magnets (14) in the initial stage of acceleration. Penetration of the magneti...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A negative ion source (10) is constructed to produce H ions without using Cesium. A high percentage of secondary electrons (23) that typically accompany the extracted H are trapped and eliminated from the beam by permanent magnets (14) in the initial stage of acceleration. Penetration of the magnetic field from the permanent magnets (14) into the ion source (10) is minimized. This reduces the destructive effect the magnetic field could have on negative ion production and extraction from the source. A beam expansion section (19) in the extractor results in a strongly converged final beam.
On crée une source d'ions négatifs (10) servant à produire des ions H- sans utiliser de césium. Un pourcentage élevé d'électrons secondaires (23) accompagnant généralement les ions H- extraits est capturé et éliminé du faisceau par des aimants permanents (14) au stade initial de l'accélération. La pénétration du champ magnétique dans la source d'ions (10) depuis les aimants permanents (14) est réduite. Cela permet de limiter l'effet destructif éventuel du champ magnétique sur la production d'ions négatifs et leur extraction depuis la source. Une section de dilatation du faisceau (19) située dans le dispositif d'extraction permet d'obtenir un faisceau final fortement convergent. |
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