METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR WAFERS AND COMPUTER STORAGE DISKS

Described is a process for utilizing an electric AC signal of a frequency preferably between 0.1 kHz and 1 GHz to modify and otherwise enhance the properties of deionized water used for the purpose of cleaning semiconductor wafers and computer storage disks before, during and after processing. Such treatment of the cleaning water enhances its ability to remove process chemicals, remove particulates, and otherwise improve the speed and economy of the cleaning process thereby directly improving the final yield of the chip or disk making process. On décrit un procédé permettant d'utiliser un signal électrique de courant alternatif d'une fréquence comprise entre 0,1 KHz et 1 GHz de préférence, pour modifier et améliorer généralement les caractéristiques de l'eau déminéralisée utilisée pour nettoyer des tranches de semi-conducteurs et des disques d'ordinateur avant, pendant et après le traitement. Un tel conditionnement de l'eau utilisée pour le nettoyage accroît son aptitude à enlever des produits chimiques de traitement et des matières particulaires, ainsi que la vitesse du procédé de nettoyage et les économies réalisées au cours de ce procédé, ce qui permet d'améliorer directement le rendement final du procédé de fabrication de puces ou de disques.