HOLLOW ELECTRODE PLASMA EXCITATION SOURCE

A plasma source incorporates a furnace (10) as a hollow anode, while acoaxial cathode (24) is disposed therewithin. The source is located in a housing (12) provided with an ionizable gas such that a glow discharge is produced between anode and cathode. Radiation or ionic emission from the glow disch...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: BALLOU, NATHAN, E
Format: Patent
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:A plasma source incorporates a furnace (10) as a hollow anode, while acoaxial cathode (24) is disposed therewithin. The source is located in a housing (12) provided with an ionizable gas such that a glow discharge is produced between anode and cathode. Radiation or ionic emission from the glow discharge characterizes a sample placed within the furnace and heated to elevated temperatures. Une source de plasma comprend un four (10) en tant qu'anode creuse à l'intérieur de laquelle est disposée une cathode coaxiale (24). La source est placée dans un logement (12) contenant un gaz ionisable de sorte qu'une décharge luminescente se produit entre l'anode et la cathode. Un rayonnement ou émission ionique résultant d'une décharge luminescente caractérise un échantillon placé dans le four et chauffé à des températures élevées.