SYSTEMS AND METHODS FOR IMPLANTING ELECTRODES IN THE BRAIN

Provided herein are lead and stylet systems and methods of using the sty let to implant the lead into the brain. The leads may be used for deep brain stimulation (DBS) and may be connected to a cranially mounted implantable pulse generator (IPG) of a DBS sy stem. The lead may comprise a lumen config...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NAGESH, Shashank, FLOYD, Jared, MALEKMADANI, Roshanne, DIXON, Tanner Chas
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Provided herein are lead and stylet systems and methods of using the sty let to implant the lead into the brain. The leads may be used for deep brain stimulation (DBS) and may be connected to a cranially mounted implantable pulse generator (IPG) of a DBS sy stem. The lead may comprise a lumen configured to removably house the stylet to assist in implanting electrodes disposed on the lead in the brain. The lead and stylet systems described herein may allow for minimal excess lead length between the implantation site of the lead in the brain and the IPG (e.g., implanted in the skull). Sont proposés dans les présentes des systèmes de fil et de stylet et des procédés d'utilisation du stylet pour implanter le fil dans le cerveau. Les fils peuvent être utilisés pour une stimulation cérébrale profonde (DBS) et peuvent être connectés à un générateur d'impulsions implantable (IPG) monté sur le crâne d'un système DBS. Le fil peut comprendre une lumière configurée pour loger de manière amovible le stylet pour aider à implanter des électrodes disposées sur le fil dans le cerveau. Les systèmes de fil et de stylet décrits dans les présentes peuvent permettre une longueur de fil en excès minimale entre le site d'implantation du fil dans le cerveau et l'IPG (par exemple, implanté dans le crâne).