ANTI-SPARKLE SUBSTRATES, DISPLAY DEVICES, AND METHODS OF MAKING THE SAME
Anti-sparkle substrates include a plurality of features extending from a first major surface of the anti-sparkle substrate. In aspects, a feature of the plurality of features includes a feature concentration of one or more of silver, rubidium, or cesium that is non-zero at the first major surface an...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Anti-sparkle substrates include a plurality of features extending from a first major surface of the anti-sparkle substrate. In aspects, a feature of the plurality of features includes a feature concentration of one or more of silver, rubidium, or cesium that is non-zero at the first major surface and is greater than a corresponding concentration of a region of the first major surface excluding the plurality of features. In aspects, a feature of the plurality of features includes a gradient refractive index profile. A feature refractive index of the feature at the first major surface is greater than a substrate refractive index by about 0.03 or more. Methods include exposing a plurality of portions of a first major surface of a substrate to a source of one or more of silver ions, rubidium ions, or cesium ions to form a plurality of features in that include the plurality of portions.
Des substrats anti-scintillement comprennent une pluralité de caractéristiques s'étendant à partir d'une première surface principale du substrat anti-scintillement. Selon certains aspects, une caractéristique de la pluralité de caractéristiques comprend une concentration de caractéristiques d'un ou de plusieurs éléments parmi l'argent, le rubidium ou le césium qui est non nulle au niveau de la première surface principale et qui est supérieure à une concentration correspondante d'une région de la première surface principale excluant la pluralité de caractéristiques. Selon certains aspects, une caractéristique de la pluralité de caractéristiques comprend un profil d'indice de réfraction de gradient. Un indice de réfraction de caractéristique de la caractéristique au niveau de la première surface principale est supérieur à un indice de réfraction de substrat d'environ 0,03 ou plus. Des procédés consistent à exposer une pluralité de parties d'une première surface principale d'un substrat à une source d'un ou de plusieurs ions argent, ions rubidium ou ions césium pour former une pluralité de caractéristiques qui comprend la pluralité de parties. |
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