HIGH TEMPERATURE BIASABLE HEATER WITH ADVANCED FAR EDGE ELECTRODE, ELECTROSTATIC CHUCK, AND EMBEDDED GROUND ELECTRODE

Examples of a substrate support are provided herein. In some examples, the substrate support has a ceramic electrostatic chuck having a body. The body has a first side configured to support a substrate and a second side opposite the first side. The body has a chucking electrode, an active edge electrode disposed adjacent the chucking electrode, a floating mesh disposed below the chucking electrode, a heater disposed below the floating mesh, and a ground mesh disposed below the heater, wherein the ground mesh is adjacent the second side. La présente invention concerne des exemples d'un ensemble support de substrat. Dans certains exemples, le support de substrat a un mandrin électrostatique en céramique ayant un corps. Le corps a un premier côté conçu pour supporter un substrat et un second côté opposé au premier côté. Le corps a une électrode de serrage, une électrode de bord actif disposée adjacente à l'électrode de serrage, une maille flottante disposée au-dessous de l'électrode de serrage, un élément chauffant disposé au-dessous de la maille flottante, et une maille de masse disposée au-dessous de l'élément chauffant, la maille de masse étant adjacente au second côté.