METHOD FOR ADJUSTING MULTI-ELECTRON BEAM AND MULTI-ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE

A method for adjusting a multi-electron beam according to one aspect of the present invention is characterized by: for each of combinations in which input values to a first, a second, and a third lens are variably combined, scanning a substrate or a mark with a representative primary electron beam, scanning an aperture substrate with a representative secondary electron beam emitted from the substrate or the mark due to the scanning with the representative primary electron beam, and detecting the scanning representative secondary electron beam by a detector, to thereby acquire a secondary electron image in which both a pattern image obtained by the scanning of the substrate or the mark with the representative primary electron beam and an aperture image obtained by the scanning of the aperture substrate with the representative secondary electron beam are captured together; and using the secondary electron image for each combination of the input values to the first, second, and third lenses to obtain a combination of a first focus input value for the first lens which, among the first and second lenses, is disposed toward a separator, the first focus input value focusing the representative secondary electron beam to a predetermined position of a first deflector, a second focus input value for the second lens for focusing the representative primary electron beam on the substrate or the mark, and a third focus input value for the third lens for focusing the representative secondary electron beam on the detector. Selon un aspect de la présente invention, un procédé de réglage d'un faisceau multi-électrons est caractérisé par les étapes consistant à : pour chacune des combinaisons dans lesquelles des valeurs d'entrée dans une première, une deuxième et une troisième lentille sont combinées de manière variable, balayer un substrat ou une marque avec un faisceau d'électrons primaires représentatif, balayer un substrat d'ouverture avec un faisceau d'électrons secondaires représentatif, émis à partir du substrat ou de la marque en raison du balayage avec le faisceau d'électrons primaires représentatif, et détecter le faisceau d'électrons secondaires représentatif de balayage à l'aide d'un détecteur, afin d'acquérir ainsi une image d'électrons secondaires dans laquelle à la fois une image de motif, obtenue par le balayage du substrat ou de la marque avec le faisceau d'électrons primaires représentatif, et une image d'ouverture, obtenue par le balayage du substrat d'ouve